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   卧式化学气相沉积炉(沉积炭)


卧式化学气相沉积炉(沉积炭)主要用于以碳氢气体(如C3H8、CH4等)为碳源的材料表面或基体的CVD/CVI处理。


技术特征

采用多温区独立控温,温度均匀性好;

采用特殊结构沉积室,密封效果好,抗污染能力强;

采用多通道沉积气路,流场均匀,无沉积死角,沉积效果好;

对炭沉积过程中产生的焦油、固体粉尘、有机气体等能进行有效处理。



卧式化学气相沉积炉产品规格


参数\型号

HCVD

-060609-C

HCVD

-101015-C

HCVD

-121220-C

HCVD

-151530-C

HCVD

-252035-C

工作区尺寸

W×H×L(mm)

600×600

×900

1000×1000

×1500

1200×1200

×2000

1500×1500

×3000

2500×2000

×3500

最高温度(℃)

1500

1500

1500

1500

1500

温度均匀性(℃)

±7.5

±7.5

±10

±10

±10

极限真空度(Pa)

1-100

1-100

1-100

1-100

1-100

压升率(Pa/h)

0.67

0.67

0.67

0.67

0.67

以上参数可根据工艺要求进行调整,不作为验收依据,具体以技术方案和协议为准。

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